技術職員・SCR半導体プロセス開発業務(つくばセンター)
(東京都)産業技術総合研究所
募集は終了しました。
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この求人の募集情報
産業技術総合研究所(東京都)では技術職員・SCR半導体プロセス開発業務(つくばセンター)の職員を募集しています。申込期限は2025年03月16日です。また、採用人数は2名程度募集、職員の身分は準公務員・みなし公務員です。
募集資格
以下の条件を満たすこと。
(1)実務経験
・実務経験は問わないが、学校などにおける半導体技術やその周辺技術の科目の履修経験があることが望ましい。
(2)資格要件
・2026年3月に高等専門学校または大学を卒業見込みであること。(既卒、大学院修士課程修了見込みも可)
・ガス薬液に関する資格保有者が望ましい。
最終更新日: 2025年05月01日
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募集要項
| 職種 |
技術職員・SCR半導体プロセス開発業務(つくばセンター)
|
|---|---|
| 仕事内容 |
・産総研スーパークリーンルーム(SCR)を活用した半導体プロセス開発及びデバイス試作業務。 ・SCR及び関連施設の半導体製造装置の保守管理、オペレーション、ロット流動業務。 ・各種研究プロジェクトへの参画、試作サービスのプロセス対応業務。 ・SCRの設備保守管理、ガス薬液管理、安全衛生管理業務。 |
| 雇用形態 | |
| 募集人数 | 2名程度募集 |
| 職員の身分 | |
| 一次試験 | 書類選考 |
| 採用予定日 |
2026年4月1日（水） |
| 応募期限 | 募集は終了しました。 |
| 勤務地 | 東京都千代田区霞が関一丁目3番1号（Google map） |
| その他 |
採用対象：
新卒（資格取得見込み）
中途採用（経験者・既卒など）
勤務する場所：
その他の職場
必要な経験：
未経験可
特別枠：
社会人・民間企業経験者
|
備考
次のいずれかに該当する者を除く。
・禁錮以上の刑に処され、その執行を終わるまで又はその刑の執行を受けることがなくなるまでの者。
・日本国籍を有していない場合は、採用予定日までに日本国内における当研究所で就労するために必要な在留資格を取得すること。
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関連する求人・試験情報
令和7年度
研究系職員(キャリア採用)
(茨城県)日本原子力研究開発機構
茨城県那珂郡東海村大字白方2番地4
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年齢 |
年齢制限の記載はありません。 |
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学歴 |
学歴不問 |
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資格 |
資格必要なし・不要、その他の資格 |
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採用日 |
2026年04月01日(水) 以降 |
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試験日 |
令和7年9月中旬までに実施：(1)研究業績審査(パワーポイントを使用した口頭発表と質疑応答)(2)面接試験 |
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申込期限：2025年07月18日(金)